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申请/专利权人：周星工程股份有限公司
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，包含腔体、支撑部、盖体、清除气体喷射单元、遮蔽件、第一喷射单元、第二喷射单元及第一分隔墙部。在腔体中，在基板上执行加工工艺。支撑部耦合腔体以支撑基板。盖体设置支撑部上并耦合腔体。清除气体喷射单元耦合盖体以将清除气体喷射至处理空间而将处理空间分成多个处理区域。遮蔽件设置在盖体与支撑部之间并耦合至盖体。第一喷射单元将第一气体喷射第一处理区域。第二喷射单元将第一气体喷射至第一处理区域。第一分隔墙部耦合至遮蔽件使得在使用第一气体的加工工艺所执行的区域包含第一喷射区域、第二喷射区域及第一分隔空间。
主权项：1.一种基板处理设备，包含：一腔体，在该腔体中，在一基板上执行加工工艺；一支撑部，耦合至该腔体以支撑该基板；一盖体，设置于该支撑部上方并且耦合至该腔体；一清除气体喷射单元，耦合至该盖体以将一清除气体喷射至该盖体与该支撑部之间的处理空间，而用来将该处理空间分隔成多个处理区域；一遮蔽件，设置于该盖体与该支撑部之间并且耦合至该盖体；一第一喷射单元，将一第一气体喷射至所述处理区域中的一第一处理区域；一第二喷射单元，在与该第一喷射单元相隔的位置将该第一气体喷射至该第一处理区域；以及一第一分隔墙部，耦合至该遮蔽件，使得在使用该第一气体的加工工艺所执行的区域中包含一第一喷射区域、一第二喷射区域以及一第一分隔空间，其中该第一喷射区域设置于该第一喷射单元下方，该第二喷射区域设置于该第二喷射单元下方，并且该第一分隔空间介于该第一喷射区域与该第二喷射区域之间，其中该第一分隔墙部凸出以形成一第一分隔墙区域，该第一喷射区域、该第二喷射区域与该第一分隔空间在该第一分隔墙区域中彼此连通，所述第一喷射区域和所述第二喷射区域设置在彼此相隔的位置，所述第一分隔空间设置在所述第二喷射区域和所述第一喷射区域之间，其中该第一分隔墙部包含一第一分隔墙组件，该第一分隔墙组件设置于该第一分隔墙区域与一中心区域之间，该中心区域设置在所述处理区域之间，该第一分隔墙组件呈直线状设置或者该第一分隔墙组件设置成从该第一分隔墙区域到该中心区域的向内方向上凸出。
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百度查询： 周星工程股份有限公司 基板处理设备
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