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申请/专利权人：浙江众凌科技有限公司
摘要：本发明公开了一种用于OLED像素沉积的金属掩膜版加工方法，它涉及半导体技术领域。包括对低硫、低硒的高纯铁99.9％Fe、高纯镍99.99％Ni原材料采用VIM+PESR或者VIM+PESR+VAR熔炼工艺；所述的VIM工艺：熔炼真空度＜5Pa，精炼结束时真空度＜0.2Pa；VIM铸锭氧含量O％≤18ppm；所述的PESR工艺：氩气保护气氛；填充比0.5‑0.8；电流kA9‑14.5；电压V55‑60；电渣渣料CaF2％：Al2O3％：CaO％＝50％‑70％：10％‑20％：10％‑20％；PESR铸锭氧含量O％≤15ppm；所述的VAR工艺：熔炼真空度＜0.3Pa；填充比0.6‑0.9；熔速＜5kgmin；氦气冷却；VAR铸锭氧含量O％≤10ppm。本发明加工工艺设计合理，通过控制配料、熔炼工艺控制invar的化学成分，使得夹层链状夹杂物造成破孔相关不良率为0％。
主权项：1.一种用于OLED像素沉积的金属掩膜版的加工方法，包括对低硫、低硒的高纯铁99.9％Fe、高纯镍99.99％Ni原材料采用VIM+PESR或者VIM+PESR+VAR熔炼工艺；所述的VIM工艺：熔炼真空度＜5Pa，精炼结束时真空度＜0.2Pa；VIM铸锭氧含量O％≤18ppm；所述的PESR工艺：氩气保护气氛；填充比0.5-0.8；电流kA9-14.5；电压V55-60；电渣渣料CaF2％：Al2O3％：CaO％＝50％-70％：10％-20％：10％-20％；PESR铸锭氧含量O％≤15ppm；所述的VAR工艺：熔炼真空度＜0.3Pa；填充比0.6-0.9；熔速＜5kgmin；氦气冷却；VAR铸锭氧含量O％≤10ppm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江众凌科技有限公司 一种用于OLED像素沉积的金属掩膜版加工方法
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