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申请/专利权人：芝浦机械电子株式会社
摘要：膜形成设备包括：转台，其设置在腔中；处理单元，其被构造为对由转台输送的工件执行等离子处理；内壁，其被构造为限定其中执行等离子处理的处理空间，并且具有以非接触方式面对转台的开口；外壁，其被构造为在具有间隙的情况下覆盖内壁的周边，并且被构造为形成具有以非接触方式面对转台的开口的排气空间；和排气端口，其连接到被构造为执行从处理空间到腔的外部的排气的排气装置，其中，处理单元是被构造为通过溅射来形成膜的膜形成部分，并且，外壁的两端与腔的侧表面接触，内壁的外周边的一部分与腔的侧表面分隔，使得反应气体不在排气空间中循环。
主权项：1.一种膜形成设备，包括：腔，其具有能够成为真空的内部；转台，其设置在所述腔中并被构造为旋转以沿着圆周输送路径循环和输送工件；多个处理单元，其被构造为通过使引入所述处理单元中的反应气体等离子化对由所述转台输送的所述工件执行等离子处理；内壁，其设置在至少一个所述处理单元中以限定处理空间，所述反应气体被引入所述处理空间中以在所述处理空间中执行所述等离子处理，并且所述内壁具有以非接触方式面对所述转台的开口；外壁，其被构造为在间隙介于所述内壁和所述外壁之间的情况下覆盖所述内壁的周边，并且被构造为形成排气空间，所述排气空间具有以非接触方式面对所述转台的开口并且在所述开口的相反侧封闭；和排气端口，其与所述排气空间连通并连接到排气装置，所述排气装置被构造为抽吸从所述内壁中的所述开口与所述转台之间的间隙泄漏的所述反应气体并将该反应气体排出到所述腔的外部，其中，一个或多个所述处理单元是膜形成部分，所述膜形成部分被构造为通过借助于溅射在所述工件上沉积膜形成材料来形成膜，以及其中，所述外壁的两端与所述腔的侧表面接触，并且所述内壁的外周边的一部分与所述腔的侧表面分隔，使得所述反应气体不能经由所述排气空间的相反两端循环。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 芝浦机械电子株式会社 膜形成设备
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