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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述一种样本检查工具。所述检查工具包括：光源，所述光源被配置成产生低于200nm的有效检查辐射；样本保持器；成像子系统，所述成像子系统包含子系统部件，所述子系统部件沿光路径将光从所述光源传送至待由所述样本保持器保持的样本；以及阻挡件，所述阻挡件被定位在所述光路径中的最后的子系统部件与待由所述样本保持器保持的样本之间。所述阻挡件允许在所述辐射从其传递穿过的同时阻止杂质到达待由所述样本保持器保持的样本。在另一实施例中，提供一种用于在检查工具中使用的阻挡件。
主权项：1.一种样本检查工具，包括：光源，所述光源被配置成产生低于200nm的有效检查辐射；样本保持器；成像子系统，所述成像子系统包含子系统部件，所述子系统部件沿光路径将光从所述光源传送至待由所述样本保持器保持的样本；阻挡件，所述阻挡件被定位在所述光路径中的最后的子系统部件与待由所述样本保持器保持的样本之间，所述阻挡件在阻止杂质到达待由所述样本保持器保持的样本的同时允许所述辐射传递穿过所述阻挡件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 检查工具和其中使用的阻挡件
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