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一种ALD反应腔装置及ALD镀膜设备 

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申请/专利权人:浙江富乐德石英科技有限公司

摘要:本发明属于ALD反应装置技术领域,尤其涉及一种ALD反应腔装置以及ALD镀膜设备,包括:机体,机体上设置有第一安装腔和第二安装腔,第一安装腔和第二安装腔之间设置有通道;反应机构,反应机构设置在第二安装腔内;抽真空机构,抽真空机构设置在机体上;输送机构,输送机构设置在第一安装腔内,并延伸到第二安装腔内;其中,第二安装腔一侧的壁面上设置有操作窗口,操作窗口连接有手套。

主权项:1.一种ALD反应腔装置以及ALD镀膜设备,其特征是,包括:机体1,所述的机体1上设置有第一安装腔2和第二安装腔3,所述的第一安装腔2和第二安装腔3之间设置有通道4;反应机构5,所述的反应机构5设置在第二安装腔3内;抽真空机构6,所述的抽真空机构6设置在机体1上;输送机构,所述的输送机构设置在第一安装腔2内,并延伸到第二安装腔3内;其中,所述的第二安装腔3一侧的壁面上设置有操作窗口31,所述的操作窗口31连接有手套32。

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权利要求:

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