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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司
摘要：本公开是关于一种掩膜板组件，该掩膜板组件包括支撑架，支撑架沿第一方向靠近第二开口的区域设有第一半刻区，支撑架与掩膜板交叠的区域包括搭接区域和第一半刻区，掩膜板位于搭接区域的部分被支撑架紧密压合，掩膜板在第一半刻区受到的磁力小于搭接区域受到的磁力。第一应力缓冲部在支撑架上的正投影位于第一半刻区，掩膜板位于两个第一应力缓冲部外侧的褶皱部分沿相互靠近的方向展平，掩膜板位于两个第一应力缓冲部之间的褶皱部分沿相互远离的方向展平，使得第一应力缓冲部沿第一方向的尺寸变小，吸收褶皱展平产生的形变量，使得存在于掩膜板与支撑架的搭接区域褶皱被展平，不会影响蒸镀效果。
主权项：1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：框架，设有第一开口；支撑架，设于所述框架的一侧，所述支撑架设有第二开口，所述第二开口在所述框架上的正投影位于所述第一开口内；掩膜板，设于所述支撑架远离所述框架的一侧，所述掩膜板包括多个掩膜条，所述掩膜条设有像素开口区，所述像素开口区在所述支撑架上的正投影位于所述第二开口内；所述支撑架至少部分区域设有第一半刻区，所述支撑架包括沿第二方向延伸的第一支撑条，所述第一支撑条与所述掩膜条交叠的区域包括搭接区域和第一半刻区，所述第一半刻区设于所述支撑架沿第一方向靠近所述第二开口的区域，所述搭接区域沿第一方向位于所述第一半刻区远离所述第二开口的一侧，所述掩膜条在所述搭接区域与所述第一支撑条接触，所述掩膜条在所述第一半刻区与所述第一支撑条之间具有间隙，所述间隙的大小等于所述第一半刻区的深度，所述掩膜板沿第一方向靠近所述像素开口区的区域设有第一应力缓冲部，所述第一应力缓冲部在所述支撑架上的正投影位于所述第一半刻区内，所述第一方向垂直于所述掩膜条的延伸方向，所述第一应力缓冲部包括设于所述掩膜板上的孔。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件
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