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申请/专利权人：墨光新能科技(苏州)有限公司
摘要：本发明属于微纳米材料光学领域，具体涉及一种掩膜刻蚀制备亚波长周期性阵列的方法，包括以下步骤：将硅酸盐玻璃原片分别用丙酮、乙醇、去离子水、乙醇清洗、烘干；用匀胶机选取乙醇乙二醇分散好的二氧化硅分散液，其中二氧化硅小球直径在200‑500nm；待分散液中溶剂挥发完成；在等离子体刻蚀仓中进行刻蚀，刻蚀气体CHF3、CF4任意一种或二者的组合，流量为45‑80sccm，刻蚀功率为75‑90W；清洗、烘干。本发明的优点在于：工艺简单；可以在不同种类的玻璃表面制备均匀亚波长微结构；减低反射效果好，单面空气‑玻璃反射从5.5％有效降低到3.2％以下，利于实现光学元件的集成。
主权项：1.一种掩膜刻蚀制备亚波长周期性阵列的方法，其特征在于，包括以下步骤：1将硅酸盐玻璃原片分别用丙酮、乙醇、去离子水、乙醇清洗、烘干；2用匀胶机选取乙醇乙二醇分散好的二氧化硅分散液，其中二氧化硅小球直径在500nm，分散液质量比为二氧化硅粉末：乙醇：乙二醇＝30：35：35；3待分散液中溶剂挥发完成；4在等离子体刻蚀仓中进行刻蚀，刻蚀气体为CHF345sccm和CF415sccm，刻蚀功率75W，刻蚀时间6min；5清洗、烘干，最后形成顶部下凹的规则柱状阵列。
全文数据：
权利要求：
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