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申请/专利权人：鹏城半导体技术(深圳)有限公司
摘要：本实用新型公开一种掩膜版切换机构以及真空镀膜设备，涉及局部表面上的镀覆技术领域，为如何实现多种图案的掩膜版之间相对于衬底的切换技术问题而发明；包括固定单元、升降往复单元、旋转单元和掩膜版单元；升降往复单元包括一个呈中空状的升降筒和至少一个凸轮，升降筒位于容纳空间内且可相对于固定单元轴向移动，旋转单元包括一个转杆，沿转杆的外周面开设有与凸轮匹配的曲线沟槽，本实用新型将升降往复单元轴向的力转化为旋转单元的周期性往复水平旋转运动，进而使得掩膜版单元的多种图案的掩膜版相对于衬底进行周期性切换，从而实现在不打开真空腔室的前提下，不同图案掩膜版相对于衬底之间的周期性切换。
主权项：1.一种掩膜版切换机构，其特征在于，包括：固定单元，具有一个容纳空间；升降往复单元，包括一个呈中空状的升降筒和至少一个凸轮，所述升降筒位于所述容纳空间内且可相对于所述固定单元轴向移动，所述凸轮布置在所述升降筒的内周面；旋转单元，包括一个转杆，且转杆至少一部分伸入至所述升降筒中空部分，沿所述转杆的外周面开设有与所述凸轮匹配的曲线沟槽，且所述凸轮的一部分位于所述曲线沟槽内；掩膜版单元，包括一个与所述转杆相连的旋转台，所述旋转台具有一个旋转面，沿所述旋转面的周向分布至少两个掩膜版；其中，所述升降筒相对于所述固定单元轴向上下移动，所述凸轮通过曲线沟槽驱动所述转杆转动，所述转杆驱动其中一个掩膜版切换至相邻的上一个掩膜版的初始位置。
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权利要求：
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