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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。
主权项：1.一种等离子体处理系统，包括：处理腔室，所述处理腔室具有腔室主体，所述腔室主体界定处理区域和等离子体场，其中所述处理腔室包括：区隔板；面板，所述面板位于所述区隔板下方，其中所述面板是连接到射频电源的电极；离子区隔板，所述离子区隔板位于所述面板下方，其中所述离子区隔板是连接到所述射频电源的电极，并且其中所述面板和所述离子区隔板在所述面板与所述离子区隔板之间界定所述等离子体场，并且其中所述离子区隔板包括盘形主体，所述盘形主体具有形成于其中的多个孔径；以及双通道喷头，所述双通道喷头位于所述离子区隔板下方，其中所述双通道喷头包括形成在所述双通道喷头中的第一多个开口和第二多个开口，所述第一多个开口和所述第二多个开口被布置为使得所述第一多个开口和所述第二多个开口从所述离子区隔板中的所述多个孔径偏离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 远程等离子体可流动CVD腔室的方法及设备
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