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申请/专利权人:无锡邑文微电子科技股份有限公司
摘要:本发明公开了一种晶圆腔室温度控制系统,涉及半导体技术领域,包括盖板和加热电阻环,所述盖板下端设有加热盖,加热盖下端面设有加热圆槽,所述加热圆槽的圆槽面上设有多个同心且不同半径的凸环,多个凸环与加热圆槽的圆槽面形成多个同心且不同半径的环槽,所述加热圆槽的侧环壁上设有多个圆周分布的分区隔板,分区隔板将加热圆槽的圆槽面分隔形成多个扇形区,每个所述环槽处均布设有通过分区隔板固位的加热电阻环,每个扇形区中对应的环槽上安装有独立调控的温控单元,每个所述扇形区中对应的凸环上设有独立监测的温度传感器,本发明通过温控单元实现和及时的对应晶圆腔室温度的精准调控,进而提升对晶圆处理的质量。
主权项:1.一种晶圆腔室温度控制系统,包括盖板(5)和加热电阻环(514),其特征在于,所述盖板(5)下端设有加热盖(51),加热盖(51)下端面设有加热圆槽(515),所述加热圆槽(515)的圆槽面上设有多个同心且不同半径的凸环(511),多个凸环(511)与加热圆槽(515)的圆槽面形成多个同心且不同半径的环槽(512),所述加热圆槽(515)的侧环壁上设有多个圆周分布的分区隔板(513),分区隔板(513)将加热圆槽(515)的圆槽面分隔形成多个扇形区(516),每个所述环槽(512)处均布设有通过分区隔板(513)固位的加热电阻环(514),每个扇形区(516)中对应的环槽(512)上安装有独立调控的温控单元(6),每个所述扇形区(516)中对应凸环(511)上设有独立监测的温度传感器(65)。
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