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申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
摘要：本发明公开了一种版图DFM方法，包含：步骤1‑1，载入芯片的版图，将所述的版图进行初步切分，使版图划分为面积近似的多个子单元；步骤1‑2，对所述子单元内的版图图形进行周长计算，得到所述每个子单元的图形总周长；步骤1‑3，设定一个子单元的图形总周长的周长有效范围，根据得到的每个子单元的图形总周长，对不满足周长有效范围的子单元进行Dummy图形填充，以补偿该子单元的图形总周长的不足。本发明通过有效计算以确定每个子单元内的图形的周长是否在有效范围内，对不在有效范围内的子单元进行更加精准的Dummy图形的填充以补偿子单元的图形总周长在有效范围内；通过子单元的有效补偿提高版图的图形密度均匀性，以提高芯片制造的良率。
主权项：1.一种版图DFM方法，其特征在于：包含如下的步骤：步骤1-1，在光刻软件工具中载入芯片的版图，对所述的版图进行初步切分，将版图划分为面积近似的多个子单元；步骤1-2，对多个所述的子单元内的版图图形进行周长计算，得到所述每个子单元的图形总周长；步骤1-3，设定一个子单元的图形总周长的周长有效范围，根据得到的每个子单元的图形总周长，对不满足周长有效范围的子单元进行Dummy图形填充，以补偿该子单元的图形总周长的不足。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 版图DFM方法
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