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保持装置、曝光装置、物品制造方法 

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申请/专利权人:佳能株式会社

摘要:本发明提供一种保持装置、曝光装置、物品制造方法。为了提供能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置,本发明所涉及的保持装置以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持光学元件,其中,具备:保持光学元件的台座及载置台座的载置台,台座及载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及按压机构,夹着与面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压光学元件。

主权项:1.一种调整方法,所述调整方法以使光学元件的光轴相对于重力方向垂直的方式将所述光学元件载置于支承部,利用第1按压机构和第2按压机构调整所述光学元件,其特征在于,所述支承部是台座,所述台座和载置有所述台座的载置台的相互针对的接触面的一方是曲面,所述调整方法包括:第1步骤,在所述第1步骤中,在利用所述第2按压机构按压了所述光学元件的与第1面相反的第2面的状态下,从利用所述第1按压机构按压了所述光学元件的所述第1面的状态降低利用所述第1按压机构按压所述第1面的按压力,以使得去除由于所述第1按压机构和所述第1面的接触而在所述光学元件中产生的应力;第2步骤,在所述第2步骤中,利用所述第1按压机构以预定的按压力按压所述第1面;第3步骤,在所述第3步骤中,在利用所述第1按压机构按压了所述第1面的状态下,从利用所述第2按压机构按压了所述第2面的状态降低利用所述第2按压机构按压所述第2面的按压力,以使得去除由于所述第2按压机构和所述第2面的接触而在所述光学元件中产生的应力;第4步骤,在所述第4步骤中,利用所述第2按压机构以预定的按压力按压所述第2面。

全文数据:

权利要求:

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