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申请/专利权人：咸阳彩虹光电科技有限公司
摘要：本发明公开了一种光罩、曝光方法及曝光系统，其中，所述光罩包括透明基板和遮光薄膜形成的光罩图案，所述光罩图案的中间设有包括若干重复单元B的曝光区域，所述曝光区域两侧边缘分别设有第一有效图形区域以及第二有效图形区域，所述第一有效图形区域的另一侧设置有第三有效图形区域，所述第二有效图形区域的另一侧设置有第四有效图形区域。本发明提供的光罩在进行大尺寸面板的拼接曝光时，可减少曝光次数，从而减少拼接次数，减轻拼接处的拼接mura现象，提高显示效果。
主权项：1.一种光罩，包括透明基板和遮光薄膜形成的光罩图案，其特征在于，所述光罩图案的中间设有包括若干重复单元B的曝光区域10，所述曝光区域10两侧边缘分别设有第一有效图形区域21以及第二有效图形区域22，所述第一有效图形区域21的另一侧设置有第三有效图形区域31，所述第二有效图形区域22的另一侧设置有第四有效图形区域32，所述第一有效图形区域21和所述第二有效图形区域22的大小相同且具有互补的马赛克图形，并满足M1+M2=M，其中，M1表示第一有效图形区域21的马赛克图形，M2表示第二有效图形区域22的马赛克图形，M表示面板中间拼接处的马赛克区域图形；所述曝光区域10的大小等于待曝光面板有效显示区域大小的1N，其中，N为正整数且4≥N≥2；或者，所述曝光区域10的大小为待曝光面板有效显示区域大小的1N减去所述第一有效图形区域21大小的二分之一，其中，N为正整数且4≥N≥2；所述第一有效图形区域21与所述第三有效图形区域31之间以及所述第二有效图形区域22与所述第四有效图形区域32之间均留有一定距离的遮光宽度；所述遮光宽度大于曝光机遮光挡板的衍射范围。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种光罩、曝光方法及曝光系统
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