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申请/专利权人：南昌航空大学
摘要：本发明公开一种DMD数字光刻大面积曝光方法，涉及数字光刻领域，方法包括：对预设BMP掩膜图片进行填补处理；按照预设滑动规则通过采样网格对填补后掩膜图片进行滑动采样，以得到子掩膜集合；针对子掩膜集合中的任一子掩膜，进行区块划分以得到子掩膜区块集合；基于数字光刻曝光面上光强均匀度分布特征及子掩膜集合，配置子掩膜区块集合中各子掩膜区块的调制权重系数；将子掩膜集合中各幅子掩膜与对应的子区块调制权重矩阵进行点乘得到各幅待曝光子掩膜；将各幅待曝光子掩膜按滑动采样顺序依次发送给DMD曝光且在DMD的曝光过程中每更换一次待曝光子掩膜，搭载曝光基片的位移平台移动一次。本发明可实现大面积、高均匀性曝光。
主权项：1.一种DMD数字光刻大面积曝光方法，其特征在于，方法包括：基于DMD，对预设BMP掩膜图片进行填补处理，以得到填补后掩膜图片；所述填补后掩膜图片的大小是根据所述DMD的大小及所述预设BMP掩膜图片的大小确定的；按照预设滑动规则，通过采样网格对所述填补后掩膜图片进行滑动采样，以得到子掩膜集合；所述采样网格的大小与所述DMD的大小相同；针对所述子掩膜集合中的任一子掩膜，进行区块划分以得到子掩膜区块集合；基于数字光刻曝光面上光强均匀度分布特征及所述子掩膜集合，配置所述子掩膜区块集合中各子掩膜区块的调制权重系数，以得到子区块调制权重矩阵；将所述子掩膜集合中各幅子掩膜与对应的子区块调制权重矩阵进行点乘，以得到各幅待曝光子掩膜；将各幅所述待曝光子掩膜按滑动采样顺序依次发送给所述DMD曝光，且在所述DMD的曝光过程中每更换一次待曝光子掩膜，搭载曝光基片的位移平台依据所述预设滑动规则移动一次。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南昌航空大学 一种DMD数字光刻大面积曝光方法
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