龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：提供了一种用于填充间隙结构而不改变薄膜特性且不产生空隙和孔隙的衬底处理方法，该衬底处理方法包括：第一操作，通过在包括间隙的结构上供应沉积抑制气体来在该结构上形成沉积抑制区域；第二操作，在间隙结构上形成薄膜；以及第三操作，通过使用在薄膜形成期间使用的至少一种气体来去除沉积抑制区域中的沉积抑制气体。
主权项：1.一种衬底处理方法，包括：在反应室中提供包括间隙的晶片；在反应室中提供沉积抑制气体，随后吹扫反应室中的沉积抑制气体，以在间隙的顶部中提供沉积抑制区域；在反应室中提供源气体和反应气体，供应射频RF功率，并吹扫残留气体以在间隙中沉积层；以及在反应室中提供没有实质反应气体的源气体，供应射频RF功率，并吹扫残留物以至少部分地去除沉积抑制区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 衬底处理方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号