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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：一种衬底处理方法包括：将具有间隙结构的衬底提供到反应空间中；将前体和反应物气体供应到反应空间中；以及在衬底上沉积可流动膜以填充衬底间隙的至少一部分。
主权项：1.一种衬底处理方法，包括：将具有间隙结构的衬底提供到反应空间中；以及将硅前体和氮反应物气体供应到反应空间中，并在衬底上沉积可流动的氮化硅膜以填充衬底间隙的至少一部分，同时通过以脉冲模式施加射频RF功率将反应空间的内部保持在等离子体状态中，其中，RF功率具有50％或更小的占空比。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 衬底处理方法
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