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用于无源和器件集成的双面重新分布层(RDL)基板 

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申请/专利权人:高通股份有限公司

摘要:一种器件包括重新分布层RDL基板。该器件还包括在该RDL基板中靠近该RDL基板的第一表面的无源组件。该器件进一步包括耦合到与该RDL基板的该第一表面相对的该RDL基板的第二表面的第一管芯。

主权项:1.一种器件,包括:重新分布层RDL基板;无源组件,所述无源组件在所述RDL基板中靠近所述RDL基板的第一表面;和第一管芯,所述第一管芯耦合到与所述RDL基板的所述第一表面相对的所述RDL基板的第二表面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 高通股份有限公司 用于无源和器件集成的双面重新分布层(RDL)基板

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