申请/专利权人：中国工程物理研究院材料研究所

申请日：2022-11-01

公开（公告）日：2024-07-05

公开（公告）号：CN115627506B

主分类号：C25D3/54

分类号：C25D3/54;C25D7/04;C25D21/12

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.07.05#授权;2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.20#公开

摘要：本发明公开了一种静态内壁管状电镀铀装置及方法，包括铝管、铝管上密封座、铝管下密封座、铂金棒和压紧支撑机构，铝管上密封座和铝管下密封座分别设置于铝管上下两端，铝管上密封座中设有连通铝管内腔的上储液空间，铝管下密封座中设有连通铝管内腔的下储液空间，压紧支撑机构用于支撑铝管下密封座，并能够将铝管压紧密封于铝管上密封座和铝管下密封座之间，铂金棒下端沿轴向依次穿过上储液空间、铝管内腔和下储液空间后连接在铝管下密封座上，铂金棒上端连接在铝管上密封座上，铂金棒用于连接电源正极，铝管用于连接电源负极。本发明可以有效提高铝管内壁铀镀膜的镀层均匀性，实现可适应不同长度铝管进行电镀的需求。

主权项：1.一种静态内壁管状电镀铀装置，其特征在于：包括铝管、铝管上密封座、铝管下密封座、铂金棒和压紧支撑机构，所述铝管上密封座和所述铝管下密封座分别设置于所述铝管上下两端，所述铝管上密封座中设有连通所述铝管内腔的上储液空间，所述铝管下密封座中设有连通所述铝管内腔的下储液空间，所述压紧支撑机构用于支撑所述铝管下密封座，并能够将所述铝管压紧密封于所述铝管上密封座和所述铝管下密封座之间，所述上储液空间、所述铝管内腔和所述下储液空间中用于加入电镀液，所述铂金棒下端沿轴向依次穿过所述上储液空间、所述铝管内腔和所述下储液空间后连接在所述铝管下密封座上，所述铂金棒上端连接在所述铝管上密封座上，所述铂金棒用于连接电源正极，所述铝管用于连接电源负极；所述铝管包括单台阶管和双台阶管，所述单台阶管为在所述铝管的一端设置台阶，所述双台阶管为在所述铝管的两端均设置所述台阶，所述台阶为外壁台阶或内壁台阶，两个所述铝管通过所述外壁台阶与所述内壁台阶能够相互拼接，所述外壁台阶和所述内壁台阶上均嵌套隔离环；所述上储液空间和所述下储液空间均为圆柱形空间，所述圆柱形空间的直径与所述铝管内径相等；所述压紧支撑机构包括底座、支撑杆、压块和第一锁紧螺母，所述铝管下密封座支撑于所述底座上，所述压块支撑于所述铝管上密封座上，所述支撑杆设置于所述铝管外侧，所述支撑杆下端固定连接在所述底座上，所述支撑杆上端穿过所述压块与所述第一锁紧螺母螺纹连接；所述铝管上密封座上设有进液通道，用于向所述上储液空间、所述铝管内腔和所述下储液空间注入电镀液；所述铝管下密封座上设有出液通道，所述底座上设有排液通道，所述排液通道一端连通所述出液通道，另一端连接排液控制阀；所述铝管下密封座下端螺纹连接有定位柱，所述底座上表面设有与所述定位柱配合的定位孔。

全文数据：

权利要求：

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