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负型超厚膜光刻胶 

申请/专利权人:默克专利股份有限公司

申请日:2019-03-20

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN111837075B

主分类号:G03F7/027

分类号:G03F7/027

优先权:["20180323 US 62/646,946"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2021.04.02#实质审查的生效;2020.10.27#公开

摘要:本发明涉及一种负型水性碱可显影光敏光刻胶组合物,其包含:a聚合物,其含有结构1、2、3及4的四种重复单元,但无其他类型的重复单元;其中v、x、y及z分别表示结构1、2、3及4的各重复单元的摩尔%;b自由基光引发剂组分,其包含至少一种自由基光引发剂,所述自由基光引发剂通过约360nm至约440nm的宽辐射吸收而活化;c交联剂组分,其为由结构5、6及7的交联剂组成的混合物或结构8的单一交联剂;d自由基抑制剂组分;e任选的表面活性剂组分;f任选的溶解促进剂组分;及g溶剂。本发明还涉及使用此负型光刻胶产生光刻图像的方法。

主权项:1.一种负型水性碱可显影光敏光刻胶组合物,其包含:a聚合物,其含有结构1、2、3及4的四种重复单元,但无其他类型的重复单元 其中,v、x、y及z分别表示所述聚合物中结构1、2、3及4的各重复单元的摩尔%,且另外其中,v在20至40摩尔%范围内,x在20至60摩尔%范围内,y在5至20摩尔%范围内,z在3至20摩尔%范围内,且另外其中,R1、R2、R3及R4独立地选自由H及CH3组成的组,且R5为C1至C4烷基部分,且仍另外,其中摩尔%v、x、y及z的总和一定总计为100摩尔%;b自由基光引发剂组分,其包含至少一种自由基光引发剂,所述自由基光引发剂通过360nm至440nm的宽辐射吸收而活化,且另外其中,所述交联剂组分c的总重量与所述自由基光引发剂组分b的总重量的重量比是9至40;c交联剂组分,其选自交联剂结构5、6及7的混合物,或结构8的单一交联剂,其中,R6、R7、R8、R10独立地选自H或甲基,且R9选自甲基或乙基,且另外其中,所述交联剂组分c的总重量与所述聚合物a的总重量的重量比是在0.71至1.2范围内; d自由基抑制剂组分,其含有至少一种自由基抑制剂;e任选的表面活性剂组分,其含有至少一种表面活性剂材料;f任选的溶解促进剂组分;及g溶剂;及另外其中,该组合物不含着色剂、颜料、色淀颜料、有机粒子、无机粒子、金属氧化物粒子、金属粒子、复合氧化物粒子、金属硫化物粒子、金属氮化物粒子、金属酸性氮化物粒子、无机盐粒子、有机盐粒子、胶态粒子、纤维、环氧乙烷、基于环氧乙烷的交联剂、聚硅氧烷聚合物。

全文数据:

权利要求:

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