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申请/专利权人：三星电子株式会社
申请日：2023-11-28
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118297875A
主分类号：G06T7/00
分类号：G06T7/00;G03F1/72;G06T7/13;G06V10/75
优先权：["20230103 KR 10-2023-0000896"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.07.05#公开
摘要：一种去除掩模的缺陷的方法可以包括：生成探针轮廓，所述探针轮廓包括原子力显微镜AFM的探针的特性；通过将所述探针轮廓应用于包括所述缺陷的位置的所述掩模的缺陷区域的设计图像来生成所述缺陷区域的基于设计的参考图像；通过使用所述AFM的所述探针扫描所述掩模的所述缺陷区域来获得所述缺陷区域的AFM图像；通过将所述缺陷区域的所述AFM图像与所述基于设计的参考图像进行比较，将所述缺陷识别为识别缺陷；以及使用所述AFM的所述探针去除所述识别缺陷。
主权项：1.一种去除掩模的缺陷的方法，所述方法包括：生成探针轮廓，所述探针轮廓包括原子力显微镜的探针的特性；通过将所述探针轮廓应用于包括所述缺陷的位置的所述掩模的缺陷区域的设计图像来生成所述缺陷区域的基于设计的参考图像；通过使用所述原子力显微镜的所述探针扫描所述掩模的所述缺陷区域来获得所述缺陷区域的原子力显微镜图像；通过将所述缺陷区域的所述原子力显微镜图像与所述基于设计的参考图像进行比较，将所述缺陷识别为识别缺陷；以及使用所述原子力显微镜的所述探针去除所述识别缺陷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 去除掩模的缺陷的方法
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