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申请/专利权人：富士胶片电子材料美国有限公司
摘要：本申请涉及一种方法，其包括将抛光组成物施加至基材的表面；使垫与该基材的该表面接触并相对于该基材移动该垫，以产生经抛光基材；以冲洗溶剂处理该经抛光基材；使蒸气流过弯月面，该弯月面形成在该经抛光基材上之空气与该冲洗溶剂之间的界面处。该蒸气包括第一组分，其含有水溶混性有机溶剂；第二组分，其含有清洁剂；及第三组分，其含有惰性气体。
主权项：1.一种方法，其包括：将抛光组合物施加至基材的表面；使垫与所述基材的所述表面接触并相对于所述基材移动所述垫，以产生经抛光基材；用冲洗溶剂处理该经抛光基材；及使蒸气流过弯月面，所述弯月面形成在所述经抛光基材上的空气与所述冲洗溶剂之间的界面处，其中所述蒸气包括第一组分，其包括水溶混性有机溶剂；第二组分，其包括清洁剂；及第三组分，其包括惰性气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 富士胶片电子材料美国有限公司 减少经抛光晶圆上的缺陷的方法
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