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申请/专利权人：上海库灵科技有限公司
摘要：本申请涉及一种高反光表面的缺陷检测方法，包括如下步骤：使用n步相移正弦条纹光照射被测物体表面；计算被测物体表面反射正弦条纹光的灰度响应幅值，记为fv，确定fv不为0的区域为被测物体表面的待检测区域；对于待检测区域表面某一位置位置的包裹相位记作fphi；对fv进行二值化及腐蚀处理，得到待检测区域的掩膜，记作mask，非条纹反射区域的像素值为1；对fv使用均衡算法，结果图像记作fveq；对fphi进行局域相位环路积分，结果记作fci，若该像素为缺陷，积分结果不为零；根据fveq，或者根据fveq和fci计算出的缺陷分布图，记为fdef；对计算缺陷分布图进行密度聚类，筛除离散的缺陷像素点，余下的缺陷像素点判定为缺陷。
主权项：1.一种高反光表面的缺陷检测方法，其特征在于，包括如下步骤：使用n步相移正弦条纹光照射被测物体表面；计算所述被测物体表面反射正弦条纹光的灰度响应幅值，记为fv，确定fv不为0的区域为所述被测物体表面的待检测区域；对于所述待检测区域表面某一位置位置的n步相移的相差为所述位置的包裹相位记作fphi；对所述fv进行二值化及腐蚀处理，得到所述待检测区域的掩膜，记作mask，所述非条纹反射区域的像素值为1，反之为0；对所述fv使用均衡算法，结果图像记作fveq；对所述fphi进行局域相位环路积分，结果记作fci，若该像素为局域光滑，则积分结果趋近于0，若该像素为缺陷，积分结果不为零；根据所述fveq计算出的缺陷分布图，或者根据所述fveq和所述fci计算出的缺陷分布图，记为fdef；对所述计算缺陷分布图进行密度聚类，通过密度聚类算法筛除离散的缺陷像素点，余下的缺陷像素点判定为缺陷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海库灵科技有限公司 高反光表面的缺陷检测方法
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