申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-07-02

公开（公告）号：CN118276403A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00;G03F7/027

优先权：["20221231 US 63/436573"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.07.19#实质审查的生效;2024.07.02#公开

摘要：一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：可固化化合物，所述可固化化合物包含以下式1的基团：其中：R1各自独立地是H、C1‑30烷基或C3‑30环烷基；Ar1是具有5至30个碳原子的芳香族环或稠合芳香族环系统；Ar2是芳香族环；Y1是单个共价键，或选自‑O‑、‑CO‑、‑COO‑、‑S‑、‑SO2‑、‑NR2‑、‑CONR2‑、‑CONR2CO‑、‑CH2y‑、或其组合，并且y是1至6的整数；x1是2至5的整数；并且*表示结合位点，其前提是没有两个基团在Ar1上彼此处于邻位，其中，**表示与Ar1的芳香族环碳的连接点；以及溶剂。

主权项：1.一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：可固化化合物，所述可固化化合物包含以下式1的基团： 其中：R1各自独立地是H、C1-30烷基或C3-30环烷基；Ar1是具有5至30个碳原子的芳香族环或稠合芳香族环系统，其中，Ar1是取代或未取代的；Ar2是选自以下各项的芳香族环：6元碳环芳香族环、5元或6元杂芳香族环、或具有5至30个碳原子的稠合芳香族环系统，其中，Ar2可选地包含稠合环状酰亚胺部分、稠合噁唑部分、稠合咪唑部分、或稠合噻唑部分，并且其中，Ar2是取代或未取代的；Y1是单个共价键，或选自以下各项：-O-、-CO-、-COO-、-S-、-SO2-、-NR2-、-CONR2-、-CONR2CO-、-CH2y-、或其组合，其中，R2是H、C1-10烷基、C2-10不饱和烃基、C5-30芳基、COR3、或SO2R3，其中，R3选自H、C1-10烷基、C2-10不饱和烃基、和C5-30芳基，并且y是1至6的整数；x1是2至5的整数；并且*表示与所述可固化化合物的除了由式1表示的基团以外的部分的结合位点，其前提是没有两个基团在Ar1上彼此处于邻位，其中，**表示与Ar1的芳香族环碳的连接点；以及溶剂。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂底层组合物及形成电子装置的方法

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