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申请/专利权人：日东电工株式会社
申请日：2020-08-06
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN115367303B
主分类号：B65D77/20
分类号：B65D77/20;B65H18/28;B32B5/18;B32B33/00;B32B7/12
优先权：["20190816 JP 2019-149386"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2022.12.09#实质审查的生效;2022.11.22#公开
摘要：本发明的盖构件为配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过上述开口的构件，该盖构件具有：保护膜，该保护膜具有在该盖构件配置于上述面时覆盖上述开口的形状；以及第1基材层，其与保护膜的一个主面接合。第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在盖构件配置于上述面时，位于保护膜与上述面之间。所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。本发明的盖构件适合于从构件供给用的片材进行剥离的剥离性的改善。
主权项：1.一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，该盖构件具有：保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，所述第1基材层在与所述保护膜的主面垂直地看时具有边框状的形状，所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日东电工株式会社 盖构件和具有该盖构件的构件供给组件
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