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基于纳米多晶硅薄膜的应变计 

申请/专利权人:电子科技大学

申请日:2024-03-27

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118258527A

主分类号:G01L1/18

分类号:G01L1/18;B82Y30/00;G01B7/16

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:一种基于纳米多晶硅薄膜的应变计,属于微波介质器件技术领域。包括衬底、纳米多晶硅薄膜方块电阻、金属导体接线层和保护层;纳米多晶硅薄膜方块电阻位于衬底之上,形成惠斯通电桥结构;金属导体接线层位于衬底之上,实现纳米多晶硅薄膜方块电阻与应变计的电极之间的连接;保护层位于金属导体接线层之上。本发明提供的一种基于纳米多晶硅薄膜的应变计,先采用PECVD沉积非晶硅薄膜,再通过管式炉退火形成多晶硅薄膜,有效降低了温度对应变计的影响;通过退火控制其晶粒尺寸30nm,改变了应变系数,进而增大了温度稳定性,得到的应变计的温度适用范围为20~150℃。

主权项:1.一种基于纳米多晶硅薄膜的应变计,其特征在于,包括衬底、纳米多晶硅薄膜方块电阻、金属导体接线层和保护层;纳米多晶硅薄膜方块电阻位于衬底之上,形成惠斯通电桥结构;金属导体接线层位于衬底之上,实现纳米多晶硅薄膜方块电阻与应变计的电极之间的连接;保护层位于金属导体接线层之上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 电子科技大学 基于纳米多晶硅薄膜的应变计

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