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申请/专利权人：日产化学株式会社
申请日：2022-11-09
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN118215886A
主分类号：G03F7/11
分类号：G03F7/11;C08G59/26;C08G59/40;G03F7/004;H01L21/027
优先权：["20211110 JP 2021-183314"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.05#实质审查的生效;2024.06.18#公开
摘要：一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有膜形成成分和溶剂，上述膜形成成分包含20质量％以上的含有特定结构的成分，上述含有特定结构的成分包含含有芳香族环的第1结构和含有氮原子的第2结构中的至少任一者，上述第1结构包含与上述芳香族环直接连接的下述式1所示的基团，上述第2结构包含与上述氮原子直接连接的下述式1所示的基团。在式1中，R1表示碳原子数1～6的亚烷基，R2表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、或总碳原子数2～10的烷氧基烷基。*表示结合键。*‑R1‑O‑R2。
主权项：1.一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有膜形成成分和溶剂，所述膜形成成分包含20质量％以上的含有特定结构的成分，所述含有特定结构的成分包含含有芳香族环的第1结构和含有氮原子的第2结构中的至少任一者，所述第1结构包含与所述芳香族环直接连接的下述式1所示的基团，所述第2结构包含与所述氮原子直接连接的下述式1所示的基团， 在式1中，R1表示碳原子数1～6的亚烷基，R2表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、或总碳原子数2～10的烷氧基烷基；＊表示结合键。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 含有烷氧基的抗蚀剂下层膜形成用组合物
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