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申请/专利权人：三星电子株式会社
申请日：2023-11-03
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259546A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004
优先权：["20221227 KR 10-2022-0186374"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：提供抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法，所述抗蚀剂组合物包括：由式1表示的有机金属化合物；和包括含有产生自由基的基团的重复单元、含有接受自由基的基团的重复单元、或其任意组合的聚合物。式1中的R11、R12和n的描述提供于说明书中。式1SnR11nOR124‑n。
主权项：1.抗蚀剂组合物，包括：由式1表示的有机金属化合物；和聚合物，其包括含有产生自由基的基团的重复单元、含有接受自由基的基团的重复单元、或其任意组合：式1SnR11nOR124-n其中在式1中，R11为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化或环状C1-C30单价烃基团，R12为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化或环状C1-C30单价烃基团，或*-SnR13mOR143-m，其中R13和R14各自独立地为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化或环状C1-C30单价烃基团，m为0-3的整数，和*为与相邻原子的结合位点，和n为1-4的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法
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