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申请/专利权人：弘元新材料(徐州)有限公司
摘要：本发明涉及光伏技术领域，具体为一种POLO选择性钝化结构实现方法，包括以下步骤：S1、界面氧化层的制备；S2、POLO结构载流子穿层；S3、多晶硅层沉积；S4、多晶硅层退火；S5、多晶硅层掺杂；S6、POLO结构的氢化处理；S7、POLO结构测试；本发明通过在晶硅表面沉积一层SiNx:H薄膜、Al2O3钝化膜，然后再进行烧结处理使得膜层中的氢释放出来达到钝化的目的，降低多晶层表面的缺陷，发挥出提升效率的潜力，提升晶硅电池的转换率，利于电池产线的使用。
主权项：1.一种POLO选择性钝化结构实现方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、界面氧化层的制备；S2、POLO结构载流子穿层；S3、多晶硅层沉积；S4、多晶硅层退火；S5、多晶硅层掺杂；S6、POLO结构的氢化处理；S7、POLO结构测试。
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权利要求：
百度查询： 弘元新材料(徐州)有限公司 一种POLO选择性钝化结构实现方法
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