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一种基于DBC覆铜板的IPD器件及其制作工艺 

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申请/专利权人:四川芯纳川科技有限公司

摘要:本发明涉及一种基于DBC覆铜板的IPD器件及其制作工艺,属于IPD器件技术领域。本发明的IPD器件包括衬底层和贯穿其中的衬底通孔,衬底层的正面和背面各有一层键合粘结层,分别为正面键合粘结层和背面键合粘结层,背面键合粘结层的背面覆有背层金属,正面键合粘结层上依次形成有最底层金属和上层金属,最底层金属和上层金属之间沉积有高介电常数介质层,上层金属上面覆有钝化层,本发明的制作工艺得到的IPD器件,具有良好的散热性,能够有效减小器件的损耗,降低制造成本。

主权项:1.一种基于DBC覆铜板的IPD器件,其特征在于,包括衬底层和贯穿其中的衬底通孔,所述衬底层的正面和背面各有一层键合粘结层,分别为正面键合粘结层和背面键合粘结层,所述背面键合粘结层的背面覆有背层金属,所述正面键合粘结层上依次形成有最底层金属和上层金属,所述最底层金属和上层金属之间沉积有高介电常数介质层,所述上层金属上面覆有钝化层;所述衬底层为高导热率的陶瓷层,厚度为100-800um;所述最底层金属内沉积有低介电常数介质层;所述最底层金属采用高导电金属,其厚度为10um-1mm;所述键合粘结层为一层尖晶石铝酸盐;所述背层金属采用高导电金属,厚度为10um-1mm。

全文数据:

权利要求:

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