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申请/专利权人：杭州电子科技大学

摘要：本发明公开了一种基于GaAs和FO‑WLP工艺异质异构集成PDK的开发方法，包括：准备阶段，准备GaAs和FO‑WLP工艺的开发文档、设计文档、器件模型文件；创建异质异构集成PDK库；创建GaAs和FO‑WLP工艺的CDF、artwork、boot、DRC、LVS等文件夹；开发阶段，编写启动异质异构集成PDK的defs文件；创建GaAs和FO‑WLP的技术文件；创建GaAs和FO‑WLP工艺器件的symbol、CDF参数、Callback、artwork、DRC、LVS文件；验证测试阶段，CDFCallback验证，artwork验证，model文件验证，DRC和LVS验证。本发明能高效完成ADS工具下异质异构集成工艺PDK的开发，较完整的解决了一些目前异质异构集成PDK开发的技术问题，实现工艺数据与设计环境的无缝集成，缩短生产周期，为推进异质异构集成电路设计研究发挥重要作用。

主权项：1.一种基于GaAs和FO-WLP工艺异质异构集成PDK的开发方法包括以下步骤：S1、准备阶段：分别获取GaAs与FO-WLP的工艺信息文件，所述工艺信息文件包括：技术文件开发文档、GaAs和FO-WLP的器件列表开发文档、用于电路原理图设计的图形符号symbol开发文档、用于描述器件属性的CDF参数开发文档、Callback回调功能函数的开发文档、用于器件artwork开发的版图开发文档、bitmap文件的开发文档、用于原理图仿真的器件模型文件和用于设计规则检查DRC文件和版图对比原理图LVS文件开发的设计手册；创建一个异质异构集成PDK库；在所述异质异构集成PDK库中创建主目录来存储异质异构集成PDK的基础组件，在基础组件中根据所述GaAs与FO-WLP工艺信息文件创建文件夹，用所述文件夹对所述GaAs和FO-WLP工艺信息文件的源文件进行分类储存，所述源文件是根据GaAs与FO-WLP的工艺信息文件运用AEL语言开发得到的源代码文件；所述文件夹包括：GaAs和FO-WLP的CDF参数文件夹、GaAs和FO-WLP的artwork文件夹、GaAs和FO-WLP的bitmap文件夹、model文件夹、DRC文件夹、LVS文件夹；在所述基础组件中还需要创建boot文件、pallete文件；得到空的异质异构集成PDK；S2、开发阶段：S2-1：在步骤S1中创建的所述主目录下，创建lib.defs文件和for_editing_pdk.defs文件，编写代码将PDK的器件库调用到ADS工具软件中使用；所述PDK的器件库是用于存放异质异构集成PDK器件单元的文件；S2-2：在ADS工具软件中加载所述S1中空的异质异构集成PDK，按如下方法配置异质异构集成PDK的路径参数，得到尚未完成的异质异构集成PDK：所述路径参数包括:model文件路径、boot文件路径、DRC文件路径、LVS文件路径，将所述model文件路径，设置为所述S1中创建的所述model文件夹的路径，将所述boot文件路径，设置为所述S1中创建的所述boot文件夹的路径，将所述DRC文件路径，设置为所述S1中创建的所述DRC文件夹的路径，将所述LVS文件路径，设置为所述S1中创建的所述LVS文件夹的路径，S2-3：根据所述S1中技术文件开发文档，在所述步骤S2-2得到的尚未完成的异质异构集成PDK中，分别创建GaAs和FO-WLP工艺的技术文件；所述技术文件用于版图设计和物理验证的工艺文件，包括：Layer定义文件、Layer显示文件、layermap文件、衬底信息文件；S2-4：根据所述S1中GaAs和FO-WLP的器件列表开发文档，在步骤S2-2得到的所述尚未完成的异质异构集成PDK中，创建每个器件单元；S2-5：根据所述S1中用于电路原理图设计的图形符号symbol开发文档，在ADS工具软件里，创建每个所述器件的symbol；S2-6：在S1中的boot文件，按下面所述方法编写代码配置异质异构集成PDK的参数路径：所述异质异构集成PDK的参数路径包括：GaAsCDF参数文件路径、GaAsartwork参数文件路径、FO-WLPCDF参数文件路径、FO-WLPartwork参数文件路径，将所述GaAsCDF参数文件路径，设置为所述S1中创建的所述GaAsCDF文件夹的路径，将所述GaAsartwork参数文件路径，设置为所述S1中创建的所述GaAsartwork文件夹的路径，将所述FO-WLPCDF参数文件路径，设置为所述S1中创建的所述FOWLPCDF文件夹的路径，将所述FO-WLPartwork参数文件路径，设置为所述S1中创建的所述FOWLPartwork文件夹的路径；S2-7：根据所述S1中用于描述器件属性的CDF参数开发文档，在S2-6中创建的所述GaAsCDF和FO-WLPCDF文件夹的路径下，运用AEL语言开发得到用于描述GaAs和FO-WLP工艺器件参数属性的CDF参数文件；S2-8：根据所述S1中Callback回调功能函数的开发文档，在S2-7中的对应CDF参数文件中，运用AEL语言开发出Callback对应的功能，以达到所述S1中Callback回调功能函数的开发文档的要求；S2-9：根据所述S1中用于原理图仿真的器件模型文件，获取步骤S1中创建的所述model文件夹的路径，在所述model文件夹的路径下，将GaAs和FO-WLP工艺器件的model文件转换成ADS工具软件可以读取的网表文件；S2-10：根据所述S1中用于器件artwork开发的版图开发文档，在步骤S2-6中设置的所述GaAsartwork参数文件路径和FO-WLPartwork文件夹的路径下，运用AEL语言开发GaAs和FO-WLP工艺器件的版图；S2-11：根据所述S1中用于设计规则检查DRC文件和版图对比原理图LVS文件开发的设计手册，获取步骤S1中创建的所述DRC文件夹的路径，在所述DRC文件夹的路径下，根据S1所述的设计手册编写GaAs和FO-WLP工艺DRC文件；S2-12：根据所述S1中用于设计规则检查DRC文件和版图对比原理图LVS文件开发的设计手册，获取步骤S1中创建的所述LVS文件夹的路径，在所述LVS文件夹的路径下，根据S1所述的设计手册编写GaAs和FO-WLP工艺LVS文件；S2-13：根据所述S1中bitmap文件的开发文档，获取步骤S1中创建的所述bitmap文件夹的路径，在所述bitmap文件夹的路径下，使用ADS工具软件画出步骤S1中所述GaAs和FO-WLP的器件列表开发文档中每个器件的bitmap文件；S2-14：获取所述步骤S1中创建的所述pallete文件的路径，在所述pallete文件的路径下，通过AEL语言编写代码加载步骤S2-13中画出的每个器件的bitmap文件；得到开发完成的异质异构集成PDK；S3、验证测试阶段：S3-1：在ADS工具软件里，通过所述步骤S2-1开发完成的lib.defs文件和for_editing_pdk.defs文件中的任意一个，加载步骤S2-14中得到的所述开发完成的异质异构集成PDK；在只读模式下，通过所述lib.defs文件加载所述所述异质异构集成PDK，在可编辑模式下，通过所述for_editing_pdk.defs文件加载所述异质异构集成PDK；调用需要验证测试器件和ProcessInclude器件搭建电路，进行仿真，判断仿真结果是否符合仿真要求，若不符合，检查所述model文件转换成ADS可以读取的网表文件是否正确，返回步骤S2-9，若符合，进入步骤S3-2；S3-2：在ADSLayoutView中搭测版图案例，读取所述S2-11中的GaAs和FO-WLP工艺DRC文件，进行DRC验证测试，判断是否符合所述S1中所述用于设计规则检查DRC文件和版图对比原理图LVS文件开发的设计手册的要求，若不符合返回步骤S2-11；若符合，进入步骤S3-3；S3-3：在ADSLayoutView和SchematicView中同时搭建相同版图和原理图案例，读取所述步骤S2-12中的GaAs和FO-WLP工艺LVS文件，进行LVS验证测试，判断是否符合所述S1中所述用于设计规则检查DRC文件和版图对比原理图LVS文件开发的设计手册要求，若不符合返回步骤S2-12。

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