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通过Czochralski法制造不含位错的单晶硅的方法 

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申请/专利权人:硅电子股份公司

摘要:本发明提供一种通过Czochralski法制造不含位错的单晶硅的方法。根据本发明的方法的特征在于使用不包含平均粒径小于250μm的颗粒的硅作为熔化原料。

主权项:通过Czochralski法制造不含位错的单晶硅的方法,其特征在于包括在熔化之前去除包含在原料硅中的平均粒径小于250μm的颗粒的精细颗粒去除步骤。

全文数据:

权利要求:

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