恭喜财团法人工业技术研究院李欣翰获国家专利权
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龙图腾网恭喜财团法人工业技术研究院申请的专利平面式磁化自旋轨道磁性组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114300613B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110202621.8，技术领域涉及：H10N50/10；该发明授权平面式磁化自旋轨道磁性组件是由李欣翰;魏拯华;王艺蓉;杨姗意;张耀仁设计研发完成，并于2021-02-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本平面式磁化自旋轨道磁性组件在说明书摘要公布了：本发明提供一种平面式磁化自旋轨道磁性组件。此平面式磁化自旋轨道磁性组件包括重金属层、上电极以及磁穿隧接面。磁穿隧接面设置于重金属层与上电极之间。磁穿隧接面包括自由层以及固定层。自由层设置于重金属层上，且自由层具有第一膜面面积。固定层设置于自由层上，且固定层具有第二膜面面积。自由层的膜面形状的长轴方向与固定层的膜面形状的长轴方向之间具有预设夹角，且第一膜面面积大于第二膜面面积。
本发明授权平面式磁化自旋轨道磁性组件在权利要求书中公布了：1.一种平面式磁化自旋轨道磁性组件，其特征在于，包括：重金属层；上电极；以及磁穿隧接面，设置于所述重金属层与所述上电极之间，其中，所述磁穿隧接面包括：自由层，设置于所述重金属层上，所述自由层具有第一膜面面积；以及固定层，设置于所述自由层上，所述固定层具有第二膜面面积，其中，所述自由层的膜面形状的长轴方向与所述固定层的膜面形状的长轴方向之间具有预设夹角，且所述第一膜面面积大于所述第二膜面面积，所述预设夹角的绝对值大于零度且小于45度；所述自由层的所述膜面形状为椭圆形以及胶囊形其中之一。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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