恭喜ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司T·波耶兹获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司申请的专利用于光刻设备中的衬底保持器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111465901B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880079853.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光刻设备中的衬底保持器是由T·波耶兹;C·H·M·伯尔蒂斯;A·A·索图特;M·A·阿克巴斯;D·范登伯格;W·范内希;M·M·C·F·托因尼森设计研发完成，并于2018-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻设备中的衬底保持器在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于光刻设备的衬底保持器和光刻设备。衬底保持器被配置成支撑衬底，且包括主体、多个支撑元件和密封单元。主体具有主体表面。多个支撑元件从主体表面突伸出，并且每个支撑元件具有配置成支撑衬底的远端端面。密封单元可以包括第一密封构件，该第一密封构件在径向上位于所述多个支撑元件的外部并且围绕所述多个支撑元件。第一密封构件的上表面可以具有被配置成在衬底的加载和或卸载期间与衬底接触的接触区域。
本发明授权用于光刻设备中的衬底保持器在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻设备中配置成支撑衬底的衬底保持器，所述衬底保持器包括：具有主体表面的主体；从主体表面突出的多个支撑元件，其中每个支撑元件具有被配置成支撑衬底的远端端面和第一高度；密封单元，包括从主体表面突出的第一密封构件，所述第一密封构件具有上表面和小于第一高度的第二高度且定位于所述多个支撑元件的径向向外并且围绕所述多个支撑元件，所述上表面具有配置成在衬底加载和或卸载期间接触所述衬底的接触区域；并且其中，接触区域的位置布置在与多个支撑元件相距足够充分的距离处，使得在衬底的加载和或卸载期间，由衬底施加到第一密封构件的力大于由衬底施加到多个支撑元件的力；并且其中，在径向方向上通过第一密封构件的横截面中，接触区域的轮廓具有被配置成使得在衬底的加载和或卸载期间所述衬底经由轮廓的至少两个不同点与第一密封构件接触的形状。
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