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龙图腾网恭喜浙江大学;西湖大学申请的专利工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115146444B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210619009.5，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质是由武雅婷;储涛;郑小睿;尚鸿鹏设计研发完成，并于2022-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质，涉及半导体技术领域。基于预设仿真模型确定待处理器件包层折射率的目标改变量，所述待处理器件为存在工艺误差的器件，根据所述包层折射率的目标改变量确定飞秒激光二次加工所采用的目标参量，根据所述目标参量对所述飞秒激光进行设置，并基于设置后的飞秒激光对所述待处理器件进行二次加工，以对所述工艺误差进行补偿。根据待处理器件的尺寸误差或性能误差确定包层折射率的目标改变量后，基于包层折射率的目标改变量所对应的飞秒激光的目标参量，执行基于飞秒激光对待处理器件进行二次加工，通过改变包层折射率，补偿工艺误差，可有效改善器件的性能。

本发明授权工艺误差的补偿方法及装置、电子设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种工艺误差的补偿方法，其特征在于，包括：基于预设仿真模型确定待处理器件包层折射率的目标改变量，所述待处理器件为存在工艺误差的器件；根据所述包层折射率的目标改变量确定飞秒激光二次加工所采用的目标参量；其中，所述飞秒激光目标参量包括波长、功率、相对焦点位置、移动速度以及被打击区域的范围、打击形状中的至少一种；根据所述目标参量对所述飞秒激光进行设置，并基于设置后的飞秒激光对所述待处理器件进行二次加工，以对所述工艺误差进行补偿；其中，所述基于预设仿真模型确定待处理器件包层折射率的目标改变量，所述方法还包括：将所述待处理器件的属性信息、尺寸误差、性能误差输入预设仿真模型，其中，所述属性信息包括：包层、芯层、埋氧层、衬底的材质及厚度，器件结构及组成，器件尺寸的至少一种；由所述预设仿真模型根据所述属性信息与尺寸误差、性能误差，确定实现补偿时包层的目标折射率，其中，所述性能与待处理器件波导中传输模式的有效折射率相关；根据所述目标折射率及包层初始折射率，计算所述包层折射率的目标改变量。

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