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龙图腾网恭喜华为技术有限公司申请的专利薄膜电感及其制作方法、集成电路、终端设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115331935B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210962239.1，技术领域涉及：H01F27/34；该发明授权薄膜电感及其制作方法、集成电路、终端设备是由刘宁;邹鹏;李宏伟;蒋帆设计研发完成，并于2018-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本薄膜电感及其制作方法、集成电路、终端设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供薄膜电感及其制作方法、集成电路、终端设备，涉及电子技术领域，解决了电子产品中电感尺寸较大的问题。该薄膜电感包括：磁芯，磁芯包括第一磁膜和第二磁膜。第一磁膜与第二磁膜之间具有容纳腔。导体，位于容纳腔内。绝缘间隔膜设置于导体两侧，且位于第一磁膜和第二磁膜之间。绝缘间隔膜与第一磁膜和第二磁膜相接触。第一磁膜和第二磁膜均包括多层磁性子膜和绝缘子膜。第一磁膜中磁性子膜和绝缘子膜交替设置。第二磁膜中磁性子膜和绝缘子膜交替设置。第一磁膜与绝缘间隔膜相接触的表面，暴露出第一磁膜中多层磁性子膜和多层绝缘子膜。和或，第二磁膜与绝缘间隔膜相接触的表面，暴露出第二磁膜中多层磁性子膜和多层绝缘子膜。

本发明授权薄膜电感及其制作方法、集成电路、终端设备在权利要求书中公布了：1.一种薄膜电感，其特征在于，包括：磁芯，包括第一磁膜和第二磁膜，所述第一磁膜与所述第二磁膜之间具有容纳腔；导体，位于所述容纳腔内；绝缘间隔膜，设置于所述导体两侧，且位于所述第一磁膜和所述第二磁膜之间；所述绝缘间隔膜与所述第一磁膜和第二磁膜相接触，所述第一磁膜和所述第二磁膜与所述绝缘间隔膜相接触的表面为斜率相同的倾斜面或曲率相同的曲面；所述第一磁膜和所述第二磁膜均包括多层磁性子膜和多层绝缘子膜，所述第一磁膜中的所述磁性子膜和所述绝缘子膜交替设置，所述第二磁膜中的所述磁性子膜和所述绝缘子膜交替设置；所述第一磁膜和所述第二磁膜中的多层磁性子膜和多层绝缘子膜，与所述第一磁膜的下表面平行；所述第一磁膜的下表面为所述第一磁膜远离所述第二磁膜一侧的表面；其中，所述第一磁膜与所述绝缘间隔膜相接触的表面，暴露出所述第一磁膜中多层磁性子膜和多层绝缘子膜；和或，所述第二磁膜与所述绝缘间隔膜相接触的表面，暴露出所述第二磁膜中多层磁性子膜和多层绝缘子膜。

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