恭喜戴森技术有限公司M.伦达尔获国家专利权
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龙图腾网恭喜戴森技术有限公司申请的专利溅射沉积获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114902371B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080090902.2,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权溅射沉积是由M.伦达尔;R.格鲁尔设计研发完成,并于2020-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射沉积在说明书摘要公布了:一种溅射沉积设备,包括:布置为支撑基底的基底支撑组件;布置为支撑至少一个溅射靶的靶支撑组件,该溅射靶用于靶材料到基底上的溅射沉积;布置成为所述溅射沉积提供等离子体的等离子体生成装置;以及布置为容纳在所述溅射沉积之后具有沉积的靶材料的基底的盒。盒可从溅射沉积设备中移出。
本发明授权溅射沉积在权利要求书中公布了:1.一种溅射沉积设备,包括:基底支撑组件,布置成支撑基底;靶支撑组件,布置成支撑至少一个溅射靶,该至少一个溅射靶用于将靶材料溅射沉积到所述基底上;等离子体生成装置,布置成提供用于所述溅射沉积的等离子体;以及盒,布置成在所述溅射沉积之后容纳具有沉积的靶材料的基底,所述盒还包括所述靶支撑组件和所述至少一个溅射靶,其中在溅射沉积之后,盒可从所述溅射沉积设备移除,在移除时,移除包括靶支撑组件、至少一个溅射靶和具有沉积的靶材料的基底的盒。
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