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恭喜信越化学工业株式会社高坂卓郎获国家专利权

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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利相移型光掩模坯料和相移型光掩模获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN110955109B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201910914432.6,技术领域涉及:G03F1/26;该发明授权相移型光掩模坯料和相移型光掩模是由高坂卓郎;小泽良兼设计研发完成,并于2019-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

相移型光掩模坯料和相移型光掩模在说明书摘要公布了:本发明提供相移型光掩模坯料和相移型光掩模。具体提供一种相移型光掩模坯料,其包括透明衬底和其上的相移膜,所述相移膜由单层或多层组成,所述单层或多层包括选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和由硅、氮和氧构成的层中的至少一层,对于波长为200nm以下的光,所述相移膜的相移为150°至250°,透射率为60%至80%,所述相移膜的厚度为150nm以下,以及由过渡金属、硅、氮和氧构成的层的作为过渡金属与过渡金属和硅的总含量之比的含量原子比为0.03以下。

本发明授权相移型光掩模坯料和相移型光掩模在权利要求书中公布了:1.一种相移型光掩模坯料,包含衬底和其上的相移膜,所述相移膜由多层组成,所述多层包含:由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层以及由硅、氮和氧构成的层中的至少一层,其中,对于波长为200nm以下的光,所述相移膜的相移为150°至250°,透射率为60%至80%,厚度为150nm以下,并且,由过渡金属、硅、氮和氧构成的层的作为过渡金属的含量与过渡金属和硅的总含量之比为0.001至0.03,以原子比计。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人信越化学工业株式会社,其通讯地址为:日本东京;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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