恭喜东友精细化工有限公司李恩远获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜东友精细化工有限公司申请的专利铜系金属膜用蚀刻组合物、铜系金属配线和薄膜晶体管阵列基板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115852371B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211158026.X，技术领域涉及：C23F1/18；该发明授权铜系金属膜用蚀刻组合物、铜系金属配线和薄膜晶体管阵列基板是由李恩远;崔容硕设计研发完成，并于2022-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本铜系金属膜用蚀刻组合物、铜系金属配线和薄膜晶体管阵列基板在说明书摘要公布了：本发明提供铜系金属膜用蚀刻组合物、铜系金属配线和薄膜晶体管阵列基板，上述铜系金属膜用蚀刻组合物包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物以及硫酸盐化合物，上述磷酸盐化合物和硫酸盐化合物分别为磷酸和硫酸的铵盐，由特定数学式1定义的Y值小于16。本发明的蚀刻组合物不产生析出物并且能够以优异的蚀刻特性进行铜系膜、钼合金膜以及硅膜的一并蚀刻。
本发明授权铜系金属膜用蚀刻组合物、铜系金属配线和薄膜晶体管阵列基板在权利要求书中公布了：1.一种铜系金属膜用蚀刻组合物，其包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物以及硫酸盐化合物，所述磷酸盐化合物和硫酸盐化合物分别为磷酸和硫酸的铵盐，由以下数学式1定义的Y值小于16，相对于组合物整体重量，包含过氧化氢5～25重量％、含氟化合物0.001～0.4重量％、唑化合物0.1～5重量％、具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.1～3.5重量％、磷酸盐化合物0.01～0.2重量％以及硫酸盐化合物0.1～2重量％，并且包含使组合物整体重量成为100重量％的余量的水，数学式1Y＝A+BC+D所述式中，A为硫酸盐化合物的含量，B为具有氮原子和羧基的水溶性化合物的含量，C为磷酸盐化合物的含量，D为含氟化合物的含量。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东友精细化工有限公司，其通讯地址为：韩国全罗北道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号