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摘要：本发明提供了一种调温装置及薄膜沉积设备，调温装置包括管道组件和调温组件，管道组件包括管道和底座，管道连接等离子体产生装置和反应腔室，底座套设于管道外侧，且底座与管道之间形成调温腔室；调温组件包括冷水装置，冷水装置的两端分别与调温腔室的两侧连通，且冷水装置和调温腔室形成冷水回路；其中，执行清洁工作时，冷水沿冷水回路流动。本申请通过在管道和底座之间设置有调温腔室，且在调温腔室的两侧连通有冷水装置，以使冷水装置和调温腔室形成冷水回路，薄膜沉积设备启动清洁工作时，冷水沿冷水回路流动，从而在调温腔室内对管道和底座进行降温，以稳定薄膜沉积的稳定性，从而保证沉积薄膜的均匀性，提高产品质量。
主权项：1.一种调温装置，其特征在于，包括：管道组件，包括管道和底座，所述管道连接等离子体产生装置和反应腔室，所述底座套设于所述管道外侧，且所述底座与所述管道之间形成调温腔室；调温组件，包括冷水装置，所述冷水装置的两端分别与所述调温腔室的两侧连通，且所述冷水装置和所述调温腔室形成冷水回路；其中，执行清洁工作时，冷水沿所述冷水回路流动。
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