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具有用于均匀成像的聚焦闪烁体结构的X射线探测器 

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申请/专利权人:皇家飞利浦有限公司

摘要:一种用于X射线成像的双层探测器XD,包括至少两个光敏表面LSS1、LSS2。双层探测器还包括第一闪烁体层SL、SL1,其包括能够将X辐射转换成光的至少一个闪烁体元件SE,所述元件具有两个面,即用于使X辐射进入元件SE的入射面S1以及在入射面S1远端的出射面S2,其中,两个面S1、S2被布置成相对于彼此移位,使得闪烁体元件SE的纵轴LAX相对于该层的法线n倾斜。闪烁体元件SE具有在两个面S1、S2之间延伸的侧壁w、w1,闪烁体层SL还包括具有侧壁w’、w1’的第二这样的闪烁体元件SE’,第二闪烁体元件SE’与第一闪烁体元件SE相邻,其中,第一闪烁体元件SE的侧壁w、w1和第二闪烁体元件SE’的侧壁w’、w1’相邻并且相对于彼此倾斜。双层探测器XD还包括这样的第二闪烁体层SL2。光敏表面LSS1、LSS2之一布置在两个闪烁体层SL1、SL2之间。

主权项:1.一种用于X射线成像的双层探测器XD,包括:至少两个光敏表面LSS1、LSS2;第一闪烁体层SL、SL1,其包括至少第一闪烁体元件SE和第二闪烁体元件SE',所述第一闪烁体元件和所述第二闪烁体元件中的每个闪烁体元件能够将X辐射转换为光,所述第二闪烁体元件SE’与所述第一闪烁体元件SE相邻,第二闪烁体层SL2;其中,所述光敏表面LSS1、LSS2中的至少一个光敏表面被布置在两个闪烁体层SL1、SL2之间;其中,所述第一闪烁体元件SE具有两个面,所述两个面是用于使X辐射进入所述元件SE的入射面S1以及在所述入射面S1远端的出射面S2,其中,所述两个面S1、S2被布置为相对于彼此移位,使得所述第一闪烁体元件SE的纵轴LAX相对于所述层的法线n被倾斜,其中,所述第一闪烁体元件SE具有在所述两个面S1、S2之间延伸的侧壁w、w1,并且所述第二闪烁体元件SE’具有侧壁w’、w1’,其中,所述第一闪烁体元件SE的所述侧壁w、w1和所述第二闪烁体元件SE’的所述侧壁w’、w1’相邻并且相对于彼此被倾斜以定义楔形的间隙或空隙。

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权利要求:

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