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申请/专利权人：季华实验室
摘要：本申请属于光学整形系统技术领域，公开了一种用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备，包括沿一光轴从前到后依次间隔设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜和照射面，通过第一透镜对入射高斯光束进行调制，第二透镜将光线转换为平行光，第三透镜聚焦形成微米级方形均匀光斑，从而解决了现有技术中难以获得微米级方形均匀光斑的问题，具有能够获得微米级方形均匀光斑、光能利用率高、成本低的优点。
主权项：1.一种用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置，其特征在于，包括沿一光轴从前到后依次间隔设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜和照射面；所述第一透镜用于对入射高斯光束的光线角度进行调制，使调制后的光束在所述第二透镜的前表面的光强分布沿x轴方向和y轴方向均符合sinc函数形貌；x轴方向和y轴方向相互垂直且均垂直于所述光轴；所述第二透镜用于改变入射到所述第二透镜的光线的折射角度，使所述光线重新转换为平行光出射；所述第三透镜为聚焦透镜，并用于把所述第二透镜的出射光聚焦在所述照射面上，形成微米级方形均匀光斑。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 季华实验室 用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备
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