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申请/专利权人：上海玛程工程技术有限公司
摘要：本实用新型公开了半导体研磨废水前处理装置，包括：箱体，箱体内侧壁固定有若干从上到下依次分布的水槽，以使箱体内腔形成从上往下蜿蜒曲折的蛇形通道；设备排水连接管，其进水端接通晶圆研磨设备的废水排出端，其出水端接通箱体内蛇形通道的进水位置，并正对最高位置的水槽内腔；滤后排水管，其进水端接通箱体内蛇形通道的出水位置，并相对接近箱体底板；可启闭的清洗口；其中，箱体内部的底板每个水槽的出水侧固定连接有过滤部件。利用物理沉淀结合过滤的方式解决半导体研磨设备的顺利排出研磨废水的问题，避免生产过程中设备排水中断。
主权项：1.半导体研磨废水前处理装置，其特征在于，包括：箱体1，所述箱体1内侧壁固定有若干从上到下依次分布的水槽，以使箱体1内腔形成从上往下蜿蜒曲折的蛇形通道，任意相邻两水槽的出水侧错开，每个水槽的出水侧均与箱体1内侧壁之间留有使水体向下流通到下一个水槽的进水侧的间隙；可拆卸设置的设备排水连接管2，其进水端接通晶圆研磨设备的废水排出端，其出水端接通箱体1内蛇形通道的进水位置，并正对最高位置的水槽内腔；可拆卸设置的滤后排水管6，其进水端接通箱体1内蛇形通道的出水位置，并相对接近箱体1底板；与箱体1内腔连通的、可启闭的、在清洗时打开并向箱体1内通入清洗液的清洗口9；其中，所述箱体1内部的底板每个水槽的出水侧固定连接有过滤部件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海玛程工程技术有限公司 半导体研磨废水前处理装置
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