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申请/专利权人：星科金朋私人有限公司
摘要：本实用新型涉及晶圆光刻技术领域，公开了一种晶圆光刻设备，通过在盖体内表面设置亲水层，并在所述盖体的内表面一侧设置覆盖所述亲水层的聚丙烯帘；使得可以通过所述亲水层和所述聚丙烯帘将溅射上来的液体引流滴落至所述晶圆的外侧，防止滴落到晶圆上。
主权项：1.一种晶圆光刻设备，其特征在于，包括：载台，用于放置晶圆；喷嘴，用于向晶圆喷射液体；盖体，用于覆盖所述晶圆，防止所述喷嘴喷射的液体外溅；其中，所述盖体内表面的至少部分区域设有亲水层，所述盖体内表面还设有覆盖所述亲水层的聚丙烯帘；所述亲水层用于吸附溅射上来的液体，所述聚丙烯帘用于对所述亲水层吸附的液体进行引流，防止滴落至所述晶圆表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 星科金朋私人有限公司 一种晶圆光刻设备
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