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下腔盖组件及晶圆暂存装置 

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申请/专利权人:浙江求是创芯半导体设备有限公司

摘要:本实用新型属于半导体加工技术领域,公开了下腔盖组件及晶圆暂存装置,下腔盖组件用于连接晶圆缓存腔本体,晶圆缓存腔本体具有下开口,所述下腔盖组件包括下腔盖本体,所述下腔盖本体可拆卸连接于晶圆缓存腔本体,所述下腔盖本体封闭下开口以形成容置晶圆的缓存腔,所述下腔盖本体开设有升降组件安装口,所述下腔盖本体连接于升降组件。本实用新型的下腔盖组件,能够可拆卸连接于晶圆缓存腔本体以降低加工难度和加工成本,并通过升降组件安装口实现升降组件的安装,降低晶圆暂存装置的组装难度和加工成本。

主权项:1.下腔盖组件,用于连接晶圆缓存腔本体100,晶圆缓存腔本体100具有下开口,其特征在于,所述下腔盖组件包括:下腔盖本体1,所述下腔盖本体1可拆卸连接于晶圆缓存腔本体100,所述下腔盖本体1封闭下开口以形成容置晶圆的缓存腔101,所述下腔盖本体1开设有升降组件安装口15,所述下腔盖本体1连接于升降组件。

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