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一种铜和钼钛合金双层膜用双剂型蚀刻组合物 

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申请/专利权人:四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司

摘要:本发明涉及一种蚀刻组合物。包括主蚀刻剂和辅助蚀刻剂,按重量百分比计,所述主蚀刻剂的组分包括:双氧水5‑30%、第一螯合剂0.5‑10%、第一抑制剂0.01‑2%、蚀刻添加剂0.01‑4%、第一钼合金蚀刻剂0.01‑2%、双氧水稳定剂0.01‑5%,去离子水补足余量;所述辅助蚀刻剂的组分包括:第二螯合剂1‑10%、第二抑制剂0.01‑2%、第二钼合金蚀刻剂0.1‑2%、胺类化合物0.1‑10%,去离子水补足余量。本申请蚀刻液寿命比以往提高了2倍以上高达14000ppm,对铜和钼‑钛合金2层膜的优秀蚀刻能力和玻璃基板损伤产生的Si系沉淀物最小化,同时可降低显示器制造成本的效果。

主权项:1.一种铜和钼钛合金双层膜用双剂型蚀刻组合物,其特征在于,包括主蚀刻剂,按重量百分比计,所述主蚀刻剂的组分包括:双氧水5-30%、第一螯合剂0.5-10%、第一抑制剂0.01-2%、蚀刻添加剂0.01-4%、第一钼合金蚀刻剂0.01-2%、双氧水稳定剂0.01-5%,去离子水补足余量。

全文数据:

权利要求:

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