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申请/专利权人：江苏福拉特自动化设备有限公司

摘要：本发明公开了一种MicroOLED精密掩模板清洗干燥方法，使用纯水或去离子水清洗掩膜板有利于保持设备干净、提高生产效率、保证产品质量，并且符合环保要求。在真空室内氮气吹扫掩膜版过程中，采用逐步抽真空方式，可以减少真空泵的负荷，延长设备的使用寿命，而采用氮气吹扫干燥掩膜板可以减少对真空泵的过多利用，从而降低维护和维修成本。氮气吹扫可以有效地清除掩膜板表面的灰尘和杂质，保证在逐级抽真空的过程中不会引入额外的污染物，确保真空室内的清洁度。通过逐级抽真空和氮气吹扫的结合使用，可以有效地保证真空环境的稳定性，有利于工艺的进行和产品的生产质量。

主权项：1.一种MicroOLED精密掩模板清洗干燥方法，其特征在于：包括如下步骤：S1）掩膜板被搬运投至清洗池内并保持竖直布置，选择浸泡或者喷淋其中之一清洗模式，并选用40~65℃纯水或者去离子水作为清洗溶液对掩膜板清洗；S2）清洗完成后，以0.2~5mms的速度将掩膜板竖直上移，通过风刀对运动过程中的掩膜板进行预干燥，风刀吹扫面倾斜朝向掩膜板的前后端面，倾斜角度为10~25°，风刀风流量为500~3000SLM；S3）掩膜板运动并离开风刀吹扫面后，将掩膜板静置5~100s；S4）在掩模板预干燥的同时，关闭真空室并开启真空室内的红外热管，并保持真空室内温度在45~65℃；S5）开启真空室内的氮气吹扫，吹扫流量控制在150~240SLM，吹扫温度为45~85℃，同时对真空室进行抽真空，真空度控制在40~65Torr，保持时间30~150s，随后加大氮气吹扫流量并控制在400~800SLM并破真空至≥750Torr；S6）打开真空室，将掩膜板搬运至真空室并关闭真空室，真空室开启抽真空，真空度抽至50~70Torr；氮气开启吹扫且吹扫流量控制在180~300SLM，同时继续抽真空并保持真空度50~80Torr，时间保持60~180s；S7）停止氮气吹扫，将真空度保持在1~10Torr，并保持180~360s；S8）继续抽真空，将真空度保持在0.05~0.5Torr，并保持60~120s；S9）关停抽真空，继续氮气吹扫，吹扫流量控制在360~800SLM，吹扫至真空室气压达750~780Torr；S10）真空室开启，红外热管关闭，将洁净的掩膜板从真空室内取出，掩膜板干燥产出。

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