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申请/专利权人：天府兴隆湖实验室
摘要：本发明涉及半导体器件制作工艺技术领域，具体地说，涉及一种双层嵌套随机单面微透镜阵列及其制造方法；通过形成不同高度的湿法刻蚀起始深度，加工出包含两套矢高和虚焦点显著不同的微透镜阵列，将两套微透镜相互嵌套形成完整连续的微透镜阵列，引入微透镜间不同高度的随机性，破坏产生少量干涉点阵的条件，消除干涉点阵，实现光斑强度完全均匀的平顶匀化光斑；并利用湿法刻蚀工艺各向同性刻蚀的特性，刻蚀过程中无需调整刻蚀参数即可加工微透镜阵列，工艺简单，节省成本。
主权项：1.一种双层嵌套随机单面微透镜阵列，包括基底（1）；其特征在于，所述双层嵌套随机单面微透镜阵列位于基底（1）内；所述双层嵌套随机单面微透镜阵列包括相互嵌套的第一单面微透镜阵列（7）和第二单面微透镜阵列（8）；所述第一单面微透镜阵列（7）的顶点与所述第二单面微透镜阵列（8）的顶点数量相同，且所述第一单面微透镜阵列（7）的矢量高度与所述第二单面微透镜阵列（8）的矢量高度不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 天府兴隆湖实验室 一种双层嵌套随机单面微透镜阵列及其制造方法
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