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申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
摘要：光酸产生化合物和相关聚合物、光致抗蚀剂组合物以及形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法。提供了一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包含：a在衬底上涂覆光致抗蚀剂组合物的层以形成光致抗蚀剂层；b按照图案将所述光致抗蚀剂层曝光于EUV辐射以形成曝光的光致抗蚀剂层；和c使所述曝光的光致抗蚀剂层显影以提供光致抗蚀剂浮雕图像，所述光致抗蚀剂组合物包括：一种具有以下结构的光酸产生化合物
主权项：1.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包含：a在衬底上涂覆光致抗蚀剂组合物的层以形成光致抗蚀剂层；b按照图案将所述光致抗蚀剂层曝光于EUV辐射以形成曝光的光致抗蚀剂层；和c使所述曝光的光致抗蚀剂层显影以提供光致抗蚀剂浮雕图像，所述光致抗蚀剂组合物包括：一种具有以下结构的光酸产生化合物 其中m是0；n是0、1、2或3；R1和R2各自独立地是氢或未被取代的C1-12烷基；X和Y在每次出现时独立地是未被取代的C1-18烷基、或C2-12烷氧基羰基-COOR3，其中R3是未被取代或被取代的C1-11烷基；并且Z-是包含磺酸酯基、氨基磺酸酯基、亚氨基磺酸酯基、甲基化物基团或硼酸酯基的阴离子；其中Z-任选地包含选自乙烯基和-COCR11＝CH2形式的丙烯酰基的可聚合基团，其中R11是氢、氟、氰基、C1-9烷基或C1-9氟烷基；前提是所述光酸产生化合物包含至多一个可聚合基团。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光酸产生化合物和相关聚合物、光致抗蚀剂组合物以及形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法
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