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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐，在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、且曝光裕度EL、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用。并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。下式1表示的鎓盐。
主权项：1.一种鎓盐，以下式1表示， 式中，n1为0或1，n2为1～3的整数，n3为0～4的整数，但n1＝0时，1≤n2+n3≤4，n1＝1时，1≤n2+n3≤6，n4为0～3的整数，n5为0～4的整数，R1为碘原子以外的卤素原子、或也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基，R2为也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基，XA及XB各自独立地为单键、或含有酯键、醚键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键的2价连接基团，R为也可以含有杂原子的碳数3～20的n4+3价环族烃基，LA及LB各自独立地为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键，XL为单键、或也可以含有杂原子的碳数1～40的亚烃基，Q1及Q2各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基，Q3及Q4各自独立地为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基，Z+为鎓阳离子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
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