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申请/专利权人:瀚积智能科技(上海)有限公司
摘要:本发明公开了一种非接触式吸盘及晶圆加工系统,包括基盘、气腔和气流通道;多个气腔阵列分布在基盘的表面,气流通道设置在基盘内部,气流通道的出口分别与各气腔连通,并且气流自进气口至各气腔的路径长度相同,相邻两个气腔的旋向相反,并在气腔中心形成真空腔,气流并能够在气腔顶部与物料之间形成气膜;所述气腔的进气口设置在气腔底部边缘,并且进气口与气腔的中心形成夹角为40°‑50°,所述气腔的侧壁为喇叭口,气腔的侧壁与气腔轴向的夹角为70°‑80°,气腔的深度为1‑2mm。该吸盘在气腔与吸盘之间形成一层气膜,同时在气腔的中心形成真空腔,实现晶圆片的非接触转运,并且该吸盘体积小能够对狭小空间的晶圆片进行吸取,具有较高的实用价值和推广价值。
主权项:1.一种非接触式吸盘,其特征在于,包括基盘、气腔和气流通道;多个气腔阵列分布在基盘的表面,气流通道设置在基盘内部,气流通道的出口分别与各气腔连通,并且气流自进气口至各气腔的路径长度相同,相邻两个气腔的旋向相反,并在气腔中心形成真空腔,气流并能够在气腔顶部与物料之间形成气膜;所述气腔的进气口设置在气腔底部边缘,并且进气口与气腔的中心形成夹角为40°-50°,所述气腔的侧壁为喇叭口,气腔的侧壁与气腔轴向的夹角为70°-80°,气腔的深度为1-2mm。
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